Home
Giới thiệu
Tài khoản
Đăng nhập
Quên mật khẩu
Đổi mật khẩu
Đăng ký tạo tài khoản
Liệt kê
Công trình khoa học
Bài báo trong nước
Bài báo quốc tế
Sách và giáo trình
Thống kê
Công trình khoa học
Bài báo khoa học
Sách và giáo trình
Giáo sư
Phó giáo sư
Tiến sĩ
Thạc sĩ
Lĩnh vực nghiên cứu
Tìm kiếm
Cá nhân
Nội dung
Góp ý
Hiệu chỉnh lý lịch
Thông tin chung
English
Đề tài NC khoa học
Bài báo, báo cáo khoa học
Hướng dẫn Sau đại học
Sách và giáo trình
Các học phần và môn giảng dạy
Giải thưởng khoa học, Phát minh, sáng chế
Khen thưởng
Thông tin khác
Tài liệu tham khảo
Hiệu chỉnh
Số người truy cập: 107,004,506
HIỆU SUẤT THIẾT BỊ CỦA TRASISTOR MÀNG MỎNG POLY-Si CHẾ TẠO TRÊN LỚP KÍCH THÍCH KẾT TINH YSZ BẰNG PHƯƠNG PHÁP NUNG HAI BƯỚC SỬ DỤNG LASER XUNG
Tác giả hoặc Nhóm tác giả:
Mai Thi Kieu Lien, Susumu Horita
Nơi đăng:
TC Khoa học và Giáo dục - Trường ĐHSP - ĐHĐN (Ngành Toán, Ngôn ngữ học, Văn học);
S
ố:
26(05).2017;
Từ->đến trang
: 18-22;
Năm:
2017
Lĩnh vực:
Tự nhiên;
Loại:
Bài báo khoa học;
Thể loại:
Trong nước
TÓM TẮT
Trong nghiên cứu này, chúng tôi đã chế tạo và khảo sát hiệu suất thiết bị của các transistor màng mỏng poly-Si bằng phương pháp nung hai bước sử dụng chùm laser xung trên hai loại đế là thuỷ tinh và YSZ/thuỷ tinh. Kết quả cho thấy các transistor màng mỏng trên đế YSZ/thuỷ tinh có hiệu suất và sự đồng đều giữa các thiết bị tốt hơn, ví dụ như độ linh động trung bình là ~80 cm2/Vs và độ lệch chuẩn của nó là ~18 cm2/Vs, so với ~40 cm2/Vs và ~28 cm2/Vs của các transistor màng mỏng trên đế thuỷ tinh. Kết quả này được coi là nhờ chất lượng tinh thể tốt hơn của màng Si trên đế YSZ/thủy tinh và sự phân bố đồng đều các hạt cũng như các khuyết tật tinh thể, thể hiện tính hiệu quả của hiệu ứng kích thích kết tinh của lớp YSZ. (*YSZ: Yttria-Stabilized Zirconia)
ABSTRACT
In this study, we fabricated and investigated device performance of poly-Si thin-film transistors (TFTs) via a two-step pulsed-laser annealing (PLA) method on two kinds of substrates namely glass and YSZ*/glass. It was found that TFTs on YSZ/glass exhibited much better performance and uniformity among devices, e.g., they showed an average mobility of ~80 cm2/Vs and standard deviation of ~18 cm2/Vs, respectively, compared with ~40 cm2/Vs and ~28 cm2/Vs of TFTs on glass substrates, respectively. This result can be attributed to the better crystalline quality of the Si film on the YSZ/glass and the uniform distribution of grains as well as crystalline defects, which demonstrates the effectiveness of the crystallization-induction effect of the YSZ layer. (*YSZ: Yttria-Stabilized Zirconia)
[
bai bao-mai thi kieu lien-khoa ly.docx
]
© Đại học Đà Nẵng
Địa chỉ: 41 Lê Duẩn Thành phố Đà Nẵng
Điện thoại: (84) 0236 3822 041 ; Email: dhdn@ac.udn.vn