Home
Giới thiệu
Tài khoản
Đăng nhập
Quên mật khẩu
Đổi mật khẩu
Đăng ký tạo tài khoản
Liệt kê
Công trình khoa học
Bài báo trong nước
Bài báo quốc tế
Sách và giáo trình
Thống kê
Công trình khoa học
Bài báo khoa học
Sách và giáo trình
Giáo sư
Phó giáo sư
Tiến sĩ
Thạc sĩ
Lĩnh vực nghiên cứu
Tìm kiếm
Cá nhân
Nội dung
Góp ý
Hiệu chỉnh lý lịch
Thông tin chung
English
Đề tài NC khoa học
Bài báo, báo cáo khoa học
Hướng dẫn Sau đại học
Sách và giáo trình
Các học phần và môn giảng dạy
Giải thưởng khoa học, Phát minh, sáng chế
Khen thưởng
Thông tin khác
Tài liệu tham khảo
Hiệu chỉnh
Số người truy cập: 107,023,983
ẢNH HƯỞNG CỦA SỰ ĐIỀU CHỈNH ĐẾ ĐẾN CÁC TÍNH CHẤT CỦA MÀNG MỎNG BARI ĐISILIC BỐC BAY NHIỆT
Tác giả hoặc Nhóm tác giả:
Mai Thị Kiều Liên
Nơi đăng:
TC Khoa học và Giáo dục - Trường ĐHSP - ĐHĐN (Ngành Toán, Ngôn ngữ học, Văn học);
S
ố:
36(05).2019;
Từ->đến trang
: 21 - 25;
Năm:
2019
Lĩnh vực:
Tự nhiên;
Loại:
Bài báo khoa học;
Thể loại:
Trong nước
TÓM TẮT
Trong nghiên cứu này, chúng tôi đã chế tạo thành công màng mỏng BaSi
2
có cấu trúc tinh thể hệ thoi trên đế Ge phẳng và đế Ge được điều chỉnh bằng phương pháp bốc bay nhiệt ở 500
o
C sử dụng lớp cung cấp nguyên tử Si. Các kết quả đạt được cho thấy, với thời gian điều chỉnh để te ngắn (nhỏ hơn 15 phút), sự điều chỉnh đế không có tác dụng đáng kể trong việc cải thiện chất lượng kết tinh và các tính chất quang học của màng BaSi
2
so với dùng đế phẳng. Khi t
e
= 15 phút, chất lượng kết tinh cũng như các tính chất quang được cải thiện đáng kể. Tuy nhiên, chất lượng kết tinh bị suy giảm trong khi các tính chất quang vẫn được cải thiện khi t
e
> 15 phút. Vì thế, chúng tôi chọn t
e
= 15 phút là thời gian tối ưu cho sự điều chỉnh bề mặt đế Ge. Các tính chất hồi đáp quang học của màng BaSi
2
trên đế Ge được điều chỉnh (với t
e
= 15 phút) và trên đế Ge phẳng cho thấy màng chế tạo trên đế được điều chỉnh có tính chất tốt hơn so với trên đế phẳng. Từ phép đo hồi đáp quang học, chúng tôi cũng xác định được vùng cấm của BaSi
2
là 1,29 eV. Các kết quả này gợi mở tiềm năng ứng dụng của màng mỏng BaSi
2
bốc bay trên đế Ge được điều chỉnh như là chất hấp thụ trong chế tạo pin mặt trời.
ABSTRACT
Orthorhombic BaSi
2
films were grown successfully on flat and modified Ge substrates the by thermal evaporation method at 500
o
C with an a-Si supply layer. The obtained results showed that within a short etching time t
e
(less than 15 min), the substrate modification had a negligible impact on improving the crystalline quality and optical properties of the BaSi
2
films in comparison with using flat substrate. When t
e
is 15 min, the crystalline quality as well as optical properties were improved significantly. However, the crystalline quality degraded whereas the optical properties was still improved as t
e
> 15 min. Therefore, we chose t
e
of 15 min as the optimized condition for surface modification of Ge substrate. Photoresponse properties of evaporated BaSi
2
films on modified (with t
e
= 15 min) and flat Ge substrates showed that the film grown on the former has better properties than that on the latter. We also confirmed the bandgap of thermally-evaporated BaSi
2
films at 1.29 eV. These results suggest the potential application of the BaSi
2
thin-film evaporated on modified Ge substrate as an absorber for thin-film solar cells.
[
2020\2020m05d04_14_4_264.Mai_Thi_Kieu_Lien-21.pdf
]
© Đại học Đà Nẵng
Địa chỉ: 41 Lê Duẩn Thành phố Đà Nẵng
Điện thoại: (84) 0236 3822 041 ; Email: dhdn@ac.udn.vn