Home
Giới thiệu
Tài khoản
Đăng nhập
Quên mật khẩu
Đổi mật khẩu
Đăng ký tạo tài khoản
Liệt kê
Công trình khoa học
Bài báo trong nước
Bài báo quốc tế
Sách và giáo trình
Thống kê
Công trình khoa học
Bài báo khoa học
Sách và giáo trình
Giáo sư
Phó giáo sư
Tiến sĩ
Thạc sĩ
Lĩnh vực nghiên cứu
Tìm kiếm
Cá nhân
Nội dung
Góp ý
Hiệu chỉnh lý lịch
Thông tin chung
English
Đề tài NC khoa học
Bài báo, báo cáo khoa học
Hướng dẫn Sau đại học
Sách và giáo trình
Các học phần và môn giảng dạy
Giải thưởng khoa học, Phát minh, sáng chế
Khen thưởng
Thông tin khác
Tài liệu tham khảo
Hiệu chỉnh
Số người truy cập: 112,298,152
Improved AlGaN/GaN HEMT perfomance by using field plate and passivation layer
Tác giả hoặc Nhóm tác giả:
Than Hong Phuc, Nguyen Thi Huyen Trang, Tran Thi Tra Vinh, Nguyen Vu Anh Quang, Huynh Thanh Tung, Hoang Trong Thuc, Nguyen Thanh Son
Nơi đăng:
The 11th CITA;
S
ố:
11;
Từ->đến trang
: 554-558;
Năm:
2022
Lĩnh vực:
Chưa xác định;
Loại:
Bài báo khoa học;
Thể loại:
Quốc tế
TÓM TẮT
Although AlGaN/GaN high electron mobility transistors (HEMTs) have been attracted great attention due to its wide bandgap energy of 3.4 eV, high breakdown electric field of 3 MV/cm, superior thermal properties, and high electron mobility, few or no reports on the effect of insulator dielectric passivation layer on the breakdown voltage (Vbr) of AlGaN/GaN HEMTs have been published. In this paper, we discuss the effect of Al2O3 as an insulator dielectric passivation layer on Vbr of AlGaN/GaN HEMT. The breakdown voltage Vbr of the HEMT with a field plate (FP-HEMT) is higher than that of HEMT without a field plate (N-HEMT). The FP-HEMT with Al2O3 passivation layer exhibits the higher breakdown voltage of 860 V. It is concluded that the AlGaN/GaN HEMT with field plate and passivation layer showed improved performance and reliability.
ABSTRACT
Although AlGaN/GaN high electron mobility transistors (HEMTs) have been attracted great attention due to its wide bandgap energy of 3.4 eV, high breakdown electric field of 3 MV/cm, superior thermal properties, and high electron mobility, few or no reports on the effect of insulator dielectric passivation layer on the breakdown voltage (Vbr) of AlGaN/GaN HEMTs have been published. In this paper, we discuss the effect of Al2O3 as an insulator dielectric passivation layer on Vbr of AlGaN/GaN HEMT. The breakdown voltage Vbr of the HEMT with a field plate (FP-HEMT) is higher than that of HEMT without a field plate (N-HEMT). The FP-HEMT with Al2O3 passivation layer exhibits the higher breakdown voltage of 860 V. It is concluded that the AlGaN/GaN HEMT with field plate and passivation layer showed improved performance and reliability.
© Đại học Đà Nẵng
Địa chỉ: 41 Lê Duẩn Thành phố Đà Nẵng
Điện thoại: (84) 0236 3822 041 ; Email: dhdn@ac.udn.vn