Home
Giới thiệu
Tài khoản
Đăng nhập
Quên mật khẩu
Đổi mật khẩu
Đăng ký tạo tài khoản
Liệt kê
Công trình khoa học
Bài báo trong nước
Bài báo quốc tế
Sách và giáo trình
Thống kê
Công trình khoa học
Bài báo khoa học
Sách và giáo trình
Giáo sư
Phó giáo sư
Tiến sĩ
Thạc sĩ
Lĩnh vực nghiên cứu
Tìm kiếm
Cá nhân
Nội dung
Góp ý
Hiệu chỉnh lý lịch
Thông tin chung
English
Đề tài NC khoa học
Bài báo, báo cáo khoa học
Hướng dẫn Sau đại học
Sách và giáo trình
Các học phần và môn giảng dạy
Giải thưởng khoa học, Phát minh, sáng chế
Khen thưởng
Thông tin khác
Tài liệu tham khảo
Hiệu chỉnh
Số người truy cập: 107,156,342
CHẾ TẠO VÀ KIỂM TRA ĐẶC ĐIỂM CỦA THANH MỀM CÔNG XÔN Ở KÍCH THƯỚT MICRO
Tác giả hoặc Nhóm tác giả:
Pham Thi Thao Khuong*, Pham Van Phat
Nơi đăng:
TẠP CHÍ KHOA HỌC VÀ CÔNG NGHỆ - ĐẠI HỌC ĐÀ NẴNG;
S
ố:
VOL. 20, NO. 11.2, 2022;
Từ->đến trang
: 67-74;
Năm:
2022
Lĩnh vực:
Khoa học công nghệ;
Loại:
Bài báo khoa học;
Thể loại:
Trong nước
TÓM TẮT
Thanh mềm công xôn đã trở thành một cấu trúc phổ biến được sử dụng trong nhiều hệ thống vi cơ điện tử (MEM). Ví dụ, thanh công xôn áp điện được gắn vào cảm biến áp suất do Memscap sản xuất hoặc được sử dụng rộng rãi trong máy phát điện MEMs, nhằm thu năng lượng từ rung động. Trong bài báo này, thanh công xôn được thiết kế và chế tạo trên các tấm silicon. Phần mềm L-Edit dùng để thiết kế hai mặt nạ cho bước phơi sáng. Quá trình chế tạo bao gồm quang khắc, bay hơi nhiệt đồng và khắc được thực hiện để đạt được các thanh công xôn như thiết kế. Độ dày của mỗi lớp được đo sau mỗi bước để khảo sát chiều cao của công xôn so với nền. Tất cả các công việc trong phòng thí nghiệm và kết quả đã đạt được, sẽ được trình bày chi tiết trong báo cáo này
ABSTRACT
Cantilever beam has become a ubiquitous structure which is utilized in many microelectromechanical systems (MEMs). For instance, piezoelectric cantilever beams are mounted into pressure sensors produced by Memscap or widely used in MEMs generators harvesting energy from vibration. In this paper, cantilever beams are designed and fabricated on silicon wafers. L-Edit software is used to design two masks for light exposure step. Fabrication process including photolithography, copper thermal evaporation, and etching is done to achieve the designed cantilever beams. The thickness of each layer is measured after each step to investigate the height of the cantilevers to the substrate. All lab work and accomplished results, in this report, will be represented in detail.
© Đại học Đà Nẵng
Địa chỉ: 41 Lê Duẩn Thành phố Đà Nẵng
Điện thoại: (84) 0236 3822 041 ; Email: dhdn@ac.udn.vn