Home
Giới thiệu
Tài khoản
Đăng nhập
Quên mật khẩu
Đổi mật khẩu
Đăng ký tạo tài khoản
Liệt kê
Công trình khoa học
Bài báo trong nước
Bài báo quốc tế
Sách và giáo trình
Thống kê
Công trình khoa học
Bài báo khoa học
Sách và giáo trình
Giáo sư
Phó giáo sư
Tiến sĩ
Thạc sĩ
Lĩnh vực nghiên cứu
Tìm kiếm
Cá nhân
Nội dung
Góp ý
Hiệu chỉnh lý lịch
Thông tin chung
English
Đề tài NC khoa học
Bài báo, báo cáo khoa học
Hướng dẫn Sau đại học
Sách và giáo trình
Các học phần và môn giảng dạy
Giải thưởng khoa học, Phát minh, sáng chế
Khen thưởng
Thông tin khác
Tài liệu tham khảo
Hiệu chỉnh
Số người truy cập: 107,034,718
Magneto-transport properties of magnetic tunneling transistors at low and room temperatures
Tác giả hoặc Nhóm tác giả:
H.D. Quang, C.X. Huu, S.K. Oh, V.S. Dang, N.H. Sinh and S.C. Yu
abortion stories gone wrong
read
teenage abortion facts
Nơi đăng:
Nanotechnology;
S
ố:
17;
Từ->đến trang
: 3359-3365;
Năm:
2006
Lĩnh vực:
Tự nhiên;
Loại:
Bài báo khoa học;
Thể loại:
Quốc tế
TÓM TẮT
ABSTRACT
Si(100)/CoFe/AlO
x
/CoFe/FeMn/Cu/Ta magnetic tunnelling transistors (MTTs) with differing base thicknesses (W) were investigated. The magneto-transport properties of the MTTs were measured at 77 K and room temperature (RT). We obtained magneto-current ratios of 48.3% and 55.9% foremitter–base bias voltages of 1.45 and 2.0 V, respectively, at 77 K. The transfer ratios are 2.83 × 10
−5
and 1.52 × 10
−4
,respectively, corresponding to bias voltages of 1.45 and 2.0 V. Moreover, the highest tunnel magneto-resistance (TMR) ratios turned out to be 12% and 20% for a base thickness of 30 ˚A at RT and 77 K, respectively. These properties raise not only some fundamental questions regarding the phenomenon of spin-independent tunnelling at low and room temperatures, but also show some promising aspect for magneto-electronic applications. In addition, we attempted to elucidate the reason behind the outstanding TMR effect at low and room temperatures. Finally, the origin of the decrease in the mean free path asymmetry (λ↑/λ↓) was clarified by using x-ray photoelectron spectroscopy profile analysis of the elements existing in the interface between Si and the CoFe base (Co, Fe, Al, Si, O).
walgreens prints coupons
rx coupons printable
free printable coupons
abortion stories gone wrong
how to abort at home
teenage abortion facts
cvs weekly sale
shauneutsey.com
prescription savings cards
© Đại học Đà Nẵng
Địa chỉ: 41 Lê Duẩn Thành phố Đà Nẵng
Điện thoại: (84) 0236 3822 041 ; Email: dhdn@ac.udn.vn